Fused Silica

Fused Silica is made of high purity Chinese crystal Silica by electrically 

fusing (fusing temperature 1800-2000 degrees centigrade) to amorphous Silicon dioxide, then by alumina 

ball mill grinding, unique air classifying, screening, magnetic and other 

impurity seperating techonology, designed for EMC and other electrical 

application. 

Special features: 

Very low coefficient of thermal expansion 
Excellent conductivity and Electrical property 
Pure (high SiO2 content, low Fe, Na, K & Ti) 
High Whiteness 
High Hardness, good wearable 

Chemical Composition: 

SiO2: 99.85% 
Al2O3: 800ppm Max 
Fe2O3: 80ppm Max 

Physical Properties: 

Specific Gravity: 2.2 

Hardness (Mohs): 6.0 
PH: 6.5-8 

Whiteness: 96 MIn. 

Lgniting Loss: 0.1% Max. 

Size Available: 

(1) QMin-F/S-E200 d50: 20Micron +/-1 
(2) QMin-F/S-E325 d50: 15Micron +/-1 
(3) QMin-F/S-E600 d50: 9Micron +/-1 
(4) QMin-F/S-E800 d50: 6Micron +/-1 

Remark: The particle size can also be produced 

as customer's special requirement.