Mode

Dimension

JTL-900

JTL-1100

JTL-1250

900*1000mm

1100*1000mm

1250*1100mm

Coating mode 

and main 

confirguration

Six multi-arc targets + one set of 

column targets + one set 

of plane rectangle magnetron 

sputtering targets 

Six multi-arc targets

 + a pair of twin (MF)

magnetron sputtering

 targets

Twelve multi-arc targets + 

two sets of  plane rectangle

 magnetron sputtering targets

+ a pair of twin (MF)magnetron

 sputtering targets

Power

 source 

Electric arc power, DC magnetron power, MF magnetron power, filament power,

 pulse power, linear ionized source.

Process 

gas control

Quality flowmeter + electromagnetism ceramic valve

Vacuum 

chamber 

structure

Vertical single(side) door, pump system postposition, double water-cooling

Vacuum 

system

Molecule pump +Roots pump +Mechanical pump(5.0*10-5Pa)

Diffusion pump +Roots pump +Mechanical pump(5.0*10-4Pa)

Workpiece

 baking 

temperature

Normal temperature to 350 centi-degree PID control, radiation heating.

Workpiece 

motion mode

Public rotation Frequency control: 0-20 rotation per minute

Measure 

mode

Number display composite vacuum gauge: from atmosphere to 1.0*10-5Pa

Control

 mode

Manual/Automatic/PC/PLC + HMI/PC  four choice of control mode

Remark

We can design the dimension of the equipment according to customer’s special 

technique requirement.